SYNOPSYS公司 和上海
华虹NEC电子有限公司正式宣布，华虹NEC电子有限公司采用了Synopsys的
PROTEUS光学近似修正（OPC）软件。华虹NEC是一家由NEC公司、Jazz Semiconductor和上海华虹集团成立的合资公司，也是中国最领先的8英寸半导体代工厂商之一。华虹NEC选择Proteus软件以增加制造精度，缩短完成掩膜综合的时间，并通过利用Proteus独特的可扩展架构达到更高的成品率。
华虹NEC首席营销和技术官赖磊平博士说道："采用Proteus OPC软件可以提升我们在精细尺寸方面的准确度以及在较短的时间内制造高良品率芯片的能力，从而应对客户的严格要求。Synopsys提供的具备可靠和快速的全面掩膜综合解决方案可以满足我们在制造方面的需求。"
随着芯片制程中的特征尺寸缩小，光学近似修正的处理时间随之增长。Proteus软件所独具的分布式处理架构提供了近似线性的可扩展性能，使得客户可以通过使用成本低廉的基于Linux系统的多CPU缩短处理时间。Proteus的可扩展性对于未来更小尺寸的半导体设计而言极具吸引力。
Synopsys可制造性设计（D
FM）营销副总裁Edmund Cheng表示："华虹NEC采用Proteus软件，是领先的半导体公司采用可扩展架构和高精度的Proteus处理亚波长产品的又一例证。Synopsys将继续在掩膜综合、掩膜数据处理、技术计算机辅助设计（TCAD）和光刻验证(SiVL)领域提供最为全面的可制造性设计（DFM）方案，以解决不断出现的制造和生产方面的问题。"
关于Synopsys可制造设计（DFM）方案
Synopsys提供了业界最为全面的从RTL到掩膜的可制造设计（DFM）解决方案。其可制造设计产品通过Proteus掩膜综合、CATS掩膜数据处理、SiVL光刻验证、iVirtual Stepper掩膜缺陷模拟和Taurus TCAD 软件产品，解决了关键的生产和可制造性方面的问题。Synopsys通过其业界领先的Galaxy设计平台实现解决方案发挥出这方面的专长，从而确保90纳米及以下尺寸的设计能够满足关键的可制造性需求。Synopsys的可制造性设计（DFM）产品已经成为全球130纳米对良品率要求很高的高价值芯片的首选解决方案。80%的亚180纳米微处理器、50%的亚180纳米DRAM、80%的亚180纳米FPGA和图形芯片，以及75%的亚180纳米蜂窝式基带芯片(Cell Baseband) 均采用了Proteus软件进行生产，同时有超过80%的光掩膜均采用CATS进行生产。
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