结构化ASIC公司采用电子束光刻技术降低NRE成本

技术分类: EDA工具与服务  可编程器件  | 2004-06-02
EDN China

结构化 ASIC 产品的NRE费用要比传统 ASIC 技术所需的低。由于采用先进的制造技术时需要更多和更复杂的掩膜,NRE 费用大大增加,于是一些代工厂和fabless公司开发了结构化 ASIC这种新产品。它采用 FPGA 产品所用的标准晶圆,但是器件之间的连接不能通过 LUT(查找表)重新编程。制造商们通常采用双金属层掩膜来产生理想的电路,因而大大降低了 NRE 成本和由于掩膜组问题引起的返工概率。
  满足上述要求的eASIC 公司已推出一种旨在消除 NRE 成本的无掩膜定制方法。该公司采用电子束直接光刻方法而不是采用常规掩膜光刻技术来实现IC定制任务,从而消除NRE成本和掩膜组成本。eASIC公司使用 e-Beam 机器,而不是使用额外掩膜来进行金属化定制工作,因而可利用通孔定制技术来提高成品率和产量。通孔要占据约 1% 的定制层面积,而金属则至少占 30%,因而缩短了电子束光刻机光刻定制层所需的时间。而且,结构化 ASIC 定制仅需要一个通孔层,这进一步缩短了周转并最终降低了成本。这种技术可以与众多代工厂和 ASIC服务提供商都有的电子束直接光刻机一起工作。这种技术的使用费用因
生产量不同而各异。
  网址:www.easic.com
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