Mentor Graphics China EDA Tech Forum 2007成功举行

技术分类: EDA工具与服务  | 2007-09-12

  以“洞悉您最复杂的设计挑战!”为主题,一年一度倍受行业关注的全球盛大年度技术论坛Mentor Graphics EDA Tech Forum 2007”圆满落下帷幕。

  今年的EDA Tech Forum带着最领先的行业资讯在全球18个城市巡回开展,中国上海站于2007年8月29日在上海富豪环球东亚酒店,北京站于8月31日在北京的五洲皇冠假日酒店举行,两地共有近千名用户踊跃参与。

  同时,Mentor Graphics的合作伙伴The Mathworks, Altera, Lattice, Common Platform, ARM 和Sun等业界知名企业也参与了论坛,并发表了精彩演讲。

  本次EDA论坛向与会者呈现了EDA领域最先进的技术和解决方案,展示了Mentor Graphics更完整,功能更齐全的解决方案,其中包括-System Design,Design for Manufacture ,Functional Verification , Electronic System Level 。同时结合业界其他的技术领先者的最新技术和成功案例,让与会者在最短的时间内,把握EDA领域的最新技术趋势,更好地克服IC设计过程中面临的困难,实现产品及早上市,创造最佳利润。

  本次论坛的成功举办标志着Mentor Graphics 在中国市场的成功定位以及对未来市场发展的坚定信心。同时,也标志着Mentor Graphics在EDA领域的领导地位,Mentor Graphics 将会用最先进的技术和解决方案以及完善售后服务,与客户分享更多的成功!

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