引自EDN博客:
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说到LPM（Library of Parameterized Modules），就一定要谈谈EDIF（Electronic Design Interchange Format）。EDIF文件是EDA厂商之间和EDA厂商与IC厂商之间传递设计信息的文件格式。LPM最初是作为EDIF标准的附件出现的。
EDIF和LPM的标准化过程：
1988年，ANSI/EIA-548: Electronic Design Interchange Format (EDIF), Version 2.0.0。
1990年，LPM标准提出，供EIA审核。
1993年，EIA 618: Electronic Design Interchange Format (EDIF) Version 3 0 0 Level 0 Reference Manual，LPM作为EDIF标准的附件，成为EI
A的一个过渡标准。
1995年，EIA PN 3714: Library of Parameterized Modules (LPM) Version 201。
1996年，EIA-682: EDIF Version 400 (EIA-682-96) Electronic Design Interchange Format。
1999年，EIA/IS-103A: Library of Parameterized Modules (LPM) Version 2.0。
从年代上看来，88年到90年前后恰好是半定制设计风格超越全定制设计风格，成为VLSI芯片设计主流的时期。LPM标准的提出可能正是响应了半定制设计的需求。
EDIF文件是EDA工具之间传递信息的标准格式。画过电路原理图和PCB的朋友一定知道，原理图文件绘制完毕后需要“生成网表”，进行PCB布局布线之前先要“引入网表”，这样才能建立原理图文件和PCB文件之间的“逻辑映射关系”。EDIF文件就是网表文件的一种格式。在很多情况下，原理图文件中的模块图形和PCB文件中的“封装”是一一对应的，这种“物理映射关系”就是通过“库文件”建立的。“库文件”包含了原理图模块的名称和图形，也包含了封装文件的名称和图形，这样一来，“物理映射关系”就建立起来了。在不同的EDA工具之间，比如Protel和Cadence还有PowerPCB，逻辑映射关系是很容易互相通用的，但是由于支持不同的“库文件”，物理映射关系往往就建立不起来。
在IC设计领域（包括PLD设计），EDIF文件就遇到了类似的问题：综合工具和实现工具必须达成一致。在LPM标准提出之前，这一点很难实现，毕竟IC设计领域存在太多的实现工艺和EDA工具。
在LPM标准提出之前，对于某些逻辑的描述没有统一的标准，描述方法都是工艺相关（Technology dependent）的，所以综合工具生成的EDIF文件不具备可移植性。在采用了LPM标准之后，对于LPM库中包含的逻辑，所有的综合工具都采用同一种行为描述方法，生成相同的EDIF文件，实现设计输入和网表的正确映射；实现工具包含各自工艺库与LPM库之间的唯一映射关系，从而能够“读懂”包含LPM描述的EDIF文件，实现网表和工艺实现之间的正确映射。这样一来，EDID文件在不同的实现工具之间移植就不成问题了。（LPM并不是唯一的解决方法，比如现在的EDA工具之间往往互相支持对方特定的库文件和网表格式，尤其像Synplicity这样的专业EDA公司，同时支持许多公司的器件和网表格式和宏单元；而Altera和Xinlinx就不能互相支持）
在这一过程中体现的原理是：通过增加一个映射层次，把一次映射关系转化为两次映射关系，两次映射关系的中介——包含LPM描述的EDIF文件——就具备了可移植性。
借来一幅图，可以更清晰地表述上述内容，不过需要细看才能看懂：
LPM标准的提出还解决了设计者面临的图形输入法可移植性差和HDL输入法硅片利用效率